台积电据悉年底前从ASML接收首批高NA EUV光刻机

据报道,台积电将于今年年底前从荷兰光刻机制造商阿斯麦(ASML)接收首批最新的高数值孔径极紫外(高NA EUV)光刻机。这批机器每台成本约为3.5亿美元,将用于生产下一代半导体。(界面)
生成分享图
本资讯链接: - 雷电财经
免责声明:本文为用户投稿,不代表雷电财经立场,且不构成投资建议,请谨慎对待。
版权声明:内容及插图归源作者所有。文章为源作者独立观点,不代表雷电财经立场。
温馨提示:如您对本文存在异议,或不巧侵犯了您的合法权益,请通过 [ 投稿须知 ] 联系我们删除!

下一篇:菲仕兰:中国业务发展稳健,目前没有裁员计划